Canon и DNP готовят прорыв: нанопечать грозит изменить производство чипов
Фото: freepik
Японская компания Canon в прошлом году осуществила передачу первой установки для нанопечати микросхем корпорации Intel. Данная технология демонстрирует значительный потенциал для снижения производственных затрат на современные интегральные схемы. В то же время, компания Dai Nippon Printing разработала материал для специализированных масок, применяемых в процессе фотолитографии для формирования рисунков на кремниевых пластинах. Планируется начало массового производства этого материала в 2027 году с целью использования его в чипах, изготовленных по техпроцессу 1,4 нм.
Метод нанопечати обеспечивает снижение энергозатрат на производство микросхем приблизительно на 90% по сравнению с традиционной фотолитографией, при которой применяются мощные лазерные источники. Стоимость установки Canon составляет около 6,4 миллионов долларов, что значительно ниже стоимости передовых фотолитографических сканеров производства компании ASML, которые в настоящее время могут составлять до половины себестоимости чипов.
Корпорации Samsung, TSMC, Micron и Kioxia выражают интерес к данной технологии. Однако их производственные мощности ориентированы на традиционные методы литографии, и переход на новую технологию возможен только при наличии убедительных доказательств её перспективности. Ранее компании Canon и Nikon занимали лидирующие позиции на рынке, но со временем утратили их в пользу ASML. В настоящее время японские компании стремятся восстановить своё влияние в отрасли, внедряя инновационные технологии.
